高壓水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線真空熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線旋轉(zhuǎn)盤離心霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線急冷法非晶粉末材料生產(chǎn)線(中日合作)等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線氮氣保護(hù)氣動分級超細(xì)粉末材料系統(tǒng)電極感應(yīng)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線燃?xì)饣鹧媲蚧苽浞勰┎牧仙a(chǎn)線真空熔煉霧化造粒裝備噴霧沉積成形裝備粉末材料生產(chǎn)裝備推桿式脫氧還原設(shè)備鋼帶式脫氧還原設(shè)備網(wǎng)帶式脫氧還原設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備井式水蒸汽熱處理設(shè)備臥式真空脫脂設(shè)備氫化脫氫生產(chǎn)鈦粉末裝備粉末材料熱處理裝備真空脫脂燒結(jié)一體裝備高比重(PM/MIM)臥式真空燒結(jié)裝備高溫鉬鎢絲燒結(jié)裝備全自動推桿式燒結(jié)裝備網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備高真空大型真空燒結(jié)裝備燃?xì)饪焖倜撓?氣淬網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備真空高溫感應(yīng)燒結(jié)裝備CIM陶瓷燒結(jié)裝備連續(xù)式真空/氣氛熱加工設(shè)備壓力燒結(jié)爐粉末制品燒結(jié)裝備真空釬焊爐高溫連續(xù)石墨化生產(chǎn)設(shè)備真空定向凝固爐真空回火/退火爐真空感應(yīng)熔煉爐雙室真空油淬氣冷爐CIM陶瓷脫脂裝備熱處理裝備真空(非真空)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線超細(xì)/納米多元復(fù)合正極材料及球形硅粉末負(fù)極材料生產(chǎn)技術(shù)解決方案鋼帶式材料煅燒合成設(shè)備推板式材料煅燒合成設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備正極材料生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)方案應(yīng)用領(lǐng)域石墨烯制備創(chuàng)新材料生產(chǎn)技術(shù)專業(yè)解決方案先進(jìn)零部件產(chǎn)品生產(chǎn)解決方案儲能電池解決方案智能裝備和新材料技術(shù)測試和展示中心安裝培訓(xùn)售后技術(shù)支持配件供應(yīng)服務(wù)與支持關(guān)于我們專家顧問團(tuán)企業(yè)文化資質(zhì)榮譽(yù)組織機(jī)構(gòu)廠房廠貌聯(lián)系我們人才招聘?技術(shù)解決方案之推桿式還原爐進(jìn)出料現(xiàn)場視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場視頻久泰科技出口日本水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線視頻出口歐洲解決方案案例視頻資料下載內(nèi)部管理平臺

干貨|石墨烯薄膜制備技術(shù)優(yōu)缺點對比詳解

石墨烯薄膜的制備

石墨烯由于其超強(qiáng)的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、機(jī)械穩(wěn)定性以及高透光性和電子遷移率等優(yōu)點,因而被認(rèn)為是制備膜材料**的材料之一。目前,石墨烯薄膜的制備方法有多種,主要包括:旋涂法、噴涂法、層層自組裝和化學(xué)氣相沉積法等。不同方法在制備石墨烯薄膜中的優(yōu)缺點

1、旋涂法

旋涂法是一種較簡單的制備石墨烯薄膜的方法。首先,配制一定濃度的石墨烯溶液,采用高速離心得到單層石墨烯分散液。其次,將其覆蓋到預(yù)處理過的基底表面。最后,選擇適宜的轉(zhuǎn)速旋涂一定時間即得到石墨烯薄膜。溶液的濃度、旋涂速度、溶劑類型、旋涂次數(shù)以及外界溫度和濕度都對薄膜的厚度和質(zhì)量具有一定的影響。


Yin等采用旋涂法在PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)表面制備出厚約16nm的石墨烯薄膜,這種膜具有良好的柔韌性和導(dǎo)電性,且在有機(jī)光伏電池中能穩(wěn)定工作?

Karthick等先采用4-苯重氮磺酸鹽對石墨烯進(jìn)行修飾改性,接著將其分散在水中制備成膠狀分散液?最后,通過旋涂法在玻璃襯底表面將其制備成透明導(dǎo)電薄膜,其在可見光波長為550nm下透光率高達(dá)89%,這種方法可以有效解決石墨烯在水溶液中分散性差的問題,從而消除其在應(yīng)用中因分散性問題.帶來的阻礙,是一種簡單、快速制備高質(zhì)量石墨烯薄膜的方法。


優(yōu)缺點:

旋涂法是目前制備薄膜材料常用的一種方法,采用這種方法制備的薄膜較均勻、厚度可控且制備工藝簡單,可以在任意形狀的基底上制備薄膜,但最適合旋涂有一定粘度的溶液且溶劑的選取對膜質(zhì)量影響較大。

2、噴涂法

噴涂法制備石墨烯薄膜是通過噴霧槍霧化石墨烯分散液,然后將霧化的分散液噴灑在基底表面,待溶劑揮發(fā)完全后即得到石墨烯薄膜。噴涂法制備薄膜中分散液的濃度、分散程度、噴涂的均勻性以及噴涂的時間均對薄膜的均一性和質(zhì)量有很大的影響。

優(yōu)缺點:

噴涂法制備石墨烯膜的方法具有簡單易操作、效率高、成本低、可在任意基底進(jìn)行、對膜損傷小和可制備大面積薄膜等特點。但是,這一方法對懸浮液分散性要求較高,薄膜的均勻性不好,厚度難以精確控制。


3、層層自組裝法

層層自組裝法制備石墨烯薄膜,通常是先通過表面改性,使石墨烯氧化物表面帶有不同基團(tuán)、電荷,從而通過靜電力、π-π作用、氫鍵等為驅(qū)動力進(jìn)行層層自組裝制備出多功能的石墨烯薄膜,作用力的不同對薄膜的形貌和結(jié)構(gòu)具有顯著的影響。


Wan等采用自組裝法通過檸檬酸鈉還原氧化石墨烯制備出一種韌性**的石墨烯薄膜,是一種有效且環(huán)保的制備石墨烯薄膜的新方法,在簡單、有效制備韌性佳的石墨烯薄膜方面具有很大的應(yīng)用潛力。


江蘇大學(xué)的周亞洲等采用靜電自組裝技術(shù),通過交替沉積聚(二烯丙基二甲基氯化銨)(PDDA)(或硝酸銀)和氧化石墨烯,制備氧化石墨烯/PDDA薄膜和氧化石墨烯/硝酸銀復(fù)合薄膜?他們在600℃經(jīng)氬氣和氫氣還原后得到石墨烯薄膜和石墨烯/銀復(fù)合薄膜。結(jié)果表明,通過靜電自組裝法可以獲得生長均勻的薄膜,對比相同自組裝次數(shù)的石墨烯薄膜,石墨烯/銀復(fù)合薄膜具有更好的透光性和更低的薄膜方塊電阻。同時,研究發(fā)現(xiàn)銀的加入不僅能夠有效改善薄膜的導(dǎo)電性而且能夠改善其透光率。由此可見,此方法對于制備多功能、高品質(zhì)石墨烯薄膜具有深遠(yuǎn)指導(dǎo)意義。


優(yōu)缺點

層層自組裝法制備多功能石墨烯或者石墨烯復(fù)合薄膜,不受基底種類、形狀、大小的限制,可以通過控制超薄膜的結(jié)構(gòu)、成分來制備多功能超薄膜。目前層層自組裝方法已經(jīng)實現(xiàn)自動化生產(chǎn)。


4、化學(xué)氣相沉積法

化學(xué)氣相沉積(CVD)法是目前應(yīng)用最廣泛的一種大規(guī)模工業(yè)化制備半導(dǎo)體薄膜材料的沉積技術(shù),它提供了一種可控制備石墨烯薄膜的有效方法。在CVD法中,基底的類型、生長的溫度、前驅(qū)體的流量等參數(shù)的選擇對石墨烯薄膜的生長工藝參數(shù)(如生長速率、厚度、面積等)具有很大的影響。

優(yōu)缺點:

采用CVD法可以得到性能優(yōu)異的大尺寸石墨烯薄膜,是目前制備高質(zhì)量石墨烯薄膜的常用方法,但是其制備過程中苛刻的實驗條件和復(fù)雜的操作方法,使其很難成為一種大規(guī)模制備石墨烯薄膜的方法。


5、其他方法

Coleman等將石墨在膽酸鈉的水溶液中超聲剝離后經(jīng)混纖膜抽濾,得到不同厚度的石墨烯薄膜,將薄膜轉(zhuǎn)移到PET基底上,制備出柔性透明導(dǎo)電薄膜。結(jié)果表明,制備的薄膜經(jīng)氫氣和氬氣混合氣體氣氛還原后,其電導(dǎo)率明顯提高。多次彎曲后電阻變化不大,表明其具有非常良好的柔韌性,這種性能是ITO導(dǎo)電薄膜無法實現(xiàn)的。


朱辰杰等以SnCl4·5H2O和石墨烯為原料,采用溶膠-凝膠法在石英玻璃襯底上制備了SnO2摻雜石墨烯的薄膜。結(jié)果表明,石墨烯的摻入使氧化錫薄膜的晶體質(zhì)量得到提高,薄膜樣品的光學(xué)譜帶發(fā)生“紅移”現(xiàn)象,隨著石墨烯含量的增加,氧化錫薄膜光致發(fā)光強(qiáng)度表現(xiàn)為逐步淬滅的現(xiàn)象。


Lim等采用恒電位聚合法制備了聚吡咯/石墨烯/錳氧化物三元納米復(fù)合薄膜。電化學(xué)測試結(jié)果表明,該三元納米復(fù)合電**有高的比電容(可達(dá)320.6F/g),且經(jīng)過1000個充電/放電循環(huán)后,其比電容仍能保持其初始值的93%以上。

Kim等用共電沉積法制備了石墨烯片層兩側(cè)沉積NiO的石墨烯復(fù)合薄膜(其制備流程圖如圖2所示)。這種薄膜顯示出良好的循環(huán)性和優(yōu)異的導(dǎo)電性,作為鋰離子電池的陽極材料,經(jīng)過50次循環(huán)充電/放電后其容量仍能保留586mA·h/g。


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